Interested Article - Постоянная решётки

Определение параметров элементарной кристаллической ячейки в виде параллелепипеда с параметрами длины рёбер a , b , c и с углами между рёбрами α, β, γ

Постоя́нная решётки , или параметр решётки — размеры элементарной кристаллической ячейки кристалла . В общем случае элементарная ячейка представляет собой параллелепипед с различными длинами рёбер, обычно эти длины обозначают как a , b , c . Но в некоторых частных случаях кристаллической структуры дли́ны этих рёбер совпадают. Если к тому же выходящие из одной вершины рёбра равны и взаимно перпендикулярны , то такую структуру называют кубической . Структуру с двумя равными рёбрами, находящимися под углом 120 градусов, и третьим ребром, перпендикулярным им, называют гексагональной .

Принято считать что, параметры элементарной ячейки описываются 6 числами: 3 длинами рёбер и 3 углами между рёбрами, принадлежащими одной вершине параллелепипеда.

Например, элементарная ячейка алмаза — кубическая и имеет параметр решётки 0,357 нм при температуре 300 К .

В литературе обычно не приводят все шесть параметров решётки, только среднюю длину рёбер ячейки и тип решётки.

Размерность параметров решётки a , b , c в СИ — длина. Величину, ввиду малости, обычно приводят в нанометрах или ангстремах ( 1 Å = 0,1 нм ).

Параметры решётки могут быть экспериментально определены методами рентгеноструктурного анализа (исторически первый метод, развитый в начале XX века) или, начиная с конца XX века, — атомно-силовой микроскопией . Параметр кристаллической решётки может использоваться в качестве природного эталона длины нанометрового диапазона.

Объём элементарной ячейки

Объём элементарной ячейки можно вычислить, зная её параметры (длины и углы параллелепипеда). Если три смежных ребра ячейки представить в виде векторов, то объём ячейки V равен (с точностью до знака) тройному скалярному произведению этих векторов (то есть скалярному произведению одного из векторов на векторное произведение двух других). В общем случае

Для моноклинных решёток α = γ = 90° , и формула упрощается до

Для орторомбических, тетрагональных и кубических решёток угол β также равен 90°, поэтому

Для тригональных (ромбоэдрических) решёток α = β = γ ≠ 90° , а также a = b = c , поэтому

Слоистые полупроводниковые гетероструктуры

Постоянство параметров решётки разнородных материалов позволяет получить слоистые, с толщиной слоёв в единицы нанометров сэндвичи разных полупроводников. Этот метод обеспечивает получение широкой запрещённой зоны во внутреннем слое полупроводника и используется при производстве высокоэффективных светодиодов и полупроводниковых лазеров .

Согласование параметров решётки

Параметры решётки важны при эпитаксиальном выращивании тонких монокристаллических слоёв другого материала на поверхности иного монокристалла — подложки. При значительной разнице параметров решётки материалов трудно получить монокристалличность и бездислокационность наращиваемого слоя. Например, в полупроводниковой технологии для выращивания эпитаксиальных слоёв монокристаллического кремния в качестве гетероподложки обычно используют сапфир (монокристалл оксида алюминия ), так как оба имеют практически равные постоянные решётки, но с разным типом сингонии, у кремния — кубическая типа алмаза , у сапфира — тригональная .

Обыкновенно параметры решётки подложки и наращиваемого слоя выбирают так, чтобы обеспечить минимум напряжений в слое плёнки.

Другим способом согласования параметров решёток является метод формирования переходного слоя между плёнкой и подложкой, в котором параметр решётки изменяется плавно (например, через слой твёрдого раствора с постепенным замещением атомов вещества подложки атомами выращиваемой плёнки, так чтобы параметр решётки слоя твёрдого раствора у самой плёнки совпадал с этим параметром плёнки).

Например, слой с шириной запрещённой зоны 1,9 эВ может быть выращен на пластине арсенида галлия с помощью метода промежуточного слоя.

См. также

Примечания

  1. R. V. Lapshin. (англ.) // (англ.) : journal. — USA: AIP, 1998. — Vol. 69 , no. 9 . — P. 3268—3276 . — ISSN . — doi : . 9 мая 2023 года.
  2. R. V. Lapshin. (англ.) // Applied Surface Science : journal. — Netherlands: Elsevier B. V., 2019. — Vol. 470 . — P. 1122—1129 . — ISSN . — doi : . 15 июня 2023 года.
  3. Dept. of Crystallography & Struc. Biol. CSIC. (4 июня 2015). Дата обращения: 9 июня 2015. 4 мая 2021 года.
Источник —

Same as Постоянная решётки