Interested Article - Нитрид галлия

Нитри́д га́ллия бинарное неорганическое химическое соединение галлия и азота . Химическая формула GaN. При обычных условиях очень твёрдое вещество с кристаллической структурой типа вюрцита . Прямозонный полупроводник с широкой запрещённой зоной — 3,4 эВ (при 300 K ).

Используется в качестве полупроводникового материала для изготовления оптоэлектронных приборов ультрафиолетового диапазона ; с 1990 года начал широко использоваться в светодиодах . Также в мощных и высокочастотных полупроводниковых приборах .

Физические свойства

При нормальных условиях — бесцветный прозрачный кристалл . Кристаллизуется в структуре типа вюрцита , также возможна кристаллизация метастабильной фазы со структурой сфалерита (цинковой обманки). Тугоплавок и твёрд . В чистом виде довольно прочный. Обладает высокой теплопроводностью и теплоёмкостью .

Является прямозонным полупроводником с шириной запрещённой зоны 3.39 эВ при 300 K. В чистом виде может быть выращен в виде монокристаллических тонких плёнок на подложках из сапфира или карбида кремния , несмотря на то, что их постоянные решёток различны . При легировании кремнием , либо кислородом приобретает электронный тип проводимости . При легировании магнием становится полупроводником с дырочным типом проводимости . Но атомы кремния и магния, внедряясь в кристаллическую решётку GaN искажают её, что вызывает механическое растяжение кристаллической решётки и придаёт монокристаллам хрупкость — плёнки нитрида галлия, как правило, имеют высокую дислокаций (от 100 млн до 10 млрд на см 2 ) .

Синтез

Кристаллы нитрида галлия выращивают прямым синтезом из элементов N {\displaystyle {\ce {N}}} и Ga {\displaystyle {\ce {Ga}}} при давлении 100 атм в атмосфере азота N 2 {\displaystyle {\ce {N2}}} и температуре 750 °C (повышенное давления газовой среды необходимо для осуществления реакции галлия и азота при относительно невысоких температурах; в условиях низкого давления галлий не вступает в реакцию с азотом ниже 1000 °C):

2 Ga + N 2 2 GaN {\displaystyle {\ce {2 Ga + N2 -> 2 GaN}}} .

Порошок нитрида галлия можно также получить из химически более активных веществ:

2 Ga + 2 NH 3 2 GaN + 3 H 2 {\displaystyle {\ce {2 Ga + 2NH3 -> 2 GaN + 3 H2 ^}}} ,
Ga 2 O 3 + 2 NH 3 2 GaN + 3 H 2 O {\displaystyle {\ce {Ga2O3 + 2 NH3 -> 2 GaN + 3H2O}}} .

Кристаллический нитрид галлия высокого качества может быть получен при низкой температуре методом осаждения из парогазовой фазы на AlN — буферном слое . Получение кристаллов нитрида галлия высокого качества позволило изучить проводимость p-типа данного соединения .

Применение

Широко используется для создания светодиодов , полупроводниковых лазеров , сверхвысокочастотных (СВЧ) транзисторов.

Благодаря реализации p-n-перехода и легирования переходного слоя индием , удалось создать недорогие и высокоэффективные синие и УФ светодиоды , эффективно излучающие при комнатной температуре (что необходимо в том числе для лазерного излучения) , это привело к коммерциализации высокопроизводительных синих светодиодов и долгосрочной жизни фиолетово-лазерных диодов, а также дало развитие устройств на основе нитридов, таких как детекторы УФ и высокоскоростных полевых транзисторов. Создание недорогих и высокоэффективных синих светодиодов из InGaN, обладающих высокой яркостью излучения, было последним в разработке светодиодов основных цветов и это позволило создать полноцветные светодиодные экраны . Кроме того, покрытие синего светодиода люминофором , переизлучающим часть синего излучения в зелёно-красной области, позволило создать белые светодиоды , широко применяющиеся в устройствах освещения, различных фонариках, лампах и светильниках различного назначения. Нитриды (полупроводники) третьей группы признаны одними из самых перспективных материалов для изготовления оптических приборов в видимой коротковолновой и УФ-области.

В 1993 году были получены первые экспериментальные полевые транзисторы из нитрида галлия . Сейчас эта область активно развивается. Сейчас нитрид галлия является перспективным материалом для создания высокочастотных, теплостойких и мощных полупроводниковых приборов . Большая ширина запрещённой зоны означает, что работоспособность транзисторов из нитрида галлия сохраняется при более высоких температурах, по сравнению с кремниевыми транзисторами . Из-за того, что транзисторы из нитрида галлия могут сохранять работоспособность при более высоких температурах и напряжениях , чем транзисторы из арсенида галлия , этот материал становится всё более привлекательным для создания приборов, применяемых в СВЧ усилителях мощности. Важными преимуществами транзисторов на основе этого полупроводника являются быстродействие в сравнении с изделиями, созданными по другим технологиям – MOSFET и IGBT , а также возможность работы при сильном напряжении и высокая надежность . Потенциальные рынки для высокомощных и высокочастотных приборов на основе GaN включают в себя СВЧ (радиочастотные усилители мощности ) и высоковольтные коммутационные устройства для электрических сетей .

Перспективным направлением использованием нитрида галлия является военная электроника, в частности, твердотельные приёмопередающие модули активной фазированной антенной решётки (АФАР) на основе GaN . В Европе лидером в разработке и применении в АФАР технологии приёмопередающих модулей (ППМ) на основе GaN является компания Airbus Defence and Space , разработавшая и предлагающая ВМС ряда стран новую корабельную РЛС TRS-4D .

Имеет повышенную устойчивость к ионизирующему излучению (также, как и другие полупроводниковые материалы — нитриды III группы), что перспективно для создания длительно работающих солнечных батарей космических аппаратов .

Нитрид галлия является одним из самых востребованных и перспективных материалов современной электроники. Развитие технологий на основе этого полупроводника имеет стратегическое значение для таких отраслей, как телекоммуникации, автомобильная промышленность, промышленная автоматика и энергетика. По прогнозам ведущих аналитиков отрасли, среднегодовой темп роста мирового рынка силовой электроники на нитриде галлия до 2024 года составит 85 %.

В качестве подложки для нитрида галлия в полупроводниковых приборах используется сапфир , карбид кремния , а также алмаз .

Безопасность

Нитрид галлия является нетоксичным веществом , но его пыль вызывает раздражение кожи, глаз и лёгких. Источниками нитрида галлия могут быть выбросы промышленных предприятий.

См. также

Ссылки

Примечания

  1. T. Harafuji and J. Kawamura. Molecular dynamics simulation for evaluating melting point of wurtzite-type GaN crystal : Appl. Phys.. — 2004. — С. 2501 . — doi : .
  2. Bougrov V., Levinshtein M.E., Rumyantsev S.L., Zubrilov A., in Properties of Advanced Semiconductor Materials GaN, AlN, InN, BN, SiC, SiGe . Eds. Levinshtein M.E., Rumyantsev S.L., Shur M.S., John Wiley & Sons, Inc., New York, 2001, 1–30
  3. Isamu Akasaki and Hiroshi Amano. Crystal Growth and Conductivity Control of Group III Nitride Semiconductors and Their Application to Short Wavelength Light Emitters : Jpn. J. Appl. Phys.. — 1997. — С. 5393–5408 . — doi : .
  4. (неопр.) . Дата обращения: 3 мая 2010. 25 мая 2011 года.
  5. Hiroshi Amano, Masahiro Kito, Kazumasa Hiramatsu и Isamu Akasaki. P-Type Conduction in Mg-Doped GaN Treated with Low-Energy Electron Beam Irradiation (LEEBI) : Jpn. J. Appl. Phys.. — 1989. — С. L2112-L2114 . — doi : .
  6. Shinji Terao, Motoaki Iwaya, Ryo Nakamura, Satoshi Kamiyama, Hiroshi Amano и Isamu Akasaki. Fracture of AlxGa1-xN/GaN Heterostructure —Compositional and Impurity Dependence. — 2001. — С. L195-L197 . — doi : .
  7. (неопр.) . Дата обращения: 3 мая 2010. 25 октября 2010 года.
  8. H. Amano. : Applied Physics Letters . — 1986. — С. 353 . — doi : . (недоступная ссылка)
  9. Наталья Быкова Нитрид галлия идёт на смену кремнию. // Эксперт , 2022, № 17-18. — с. 68-71
  10. Hiroshi Amano, Tsunemori Asahi and Isamu Akasaki. Stimulated Emission Near Ultraviolet at Room Temperature from a GaN Film Grown on Sapphire by MOVPE Using an AlN Buffer Layer : Jpn. J. Appl. Phys.. — 1990. — С. L205-L206 . — doi : .
  11. Isamu Akasaki, Hiroshi Amano, Shigetoshi Sota, Hiromitsu Sakai, Toshiyuki Tanaka и Masayoshi Koike. Stimulated Emission by Current Injection from an AlGaN/GaN/GaInN Quantum Well Device : Jpn. J. Appl. Phys.. — 1995. — С. L1517-L1519 . — doi : .
  12. Morkoç, H. Large-band-gap SiC, III-V nitride, and II-VI ZnSe-based semiconductor device technologies : Journal of Applied Physics . — 1994. — С. 1363 . — doi : .
  13. Asif Khan, M. Metal semiconductor field effect transistor based on single crystal GaN : Applied Physics Letters . — 1993. — С. 1786 . — doi : .
  14. Hajime Okumura. Present Status and Future Prospect of Widegap Semiconductor High-Power Devices : Jpn. J. Appl. Phys.. — 2006. — С. 7565–7586 . — doi : .
  15. от 3 июня 2022 на Wayback Machine // 12 ноября, 2021
  16. от 6 августа 2022 на Wayback Machine // Элек.ру, 5 апреля 2022
  17. от 6 августа 2022 на Wayback Machine от 6 августа 2022 на Wayback Machine // IXBT.com , 22 февраля 2020
  18. от 20 ноября 2021 на Wayback Machine Northrop Grumman , 13 April 2011.
  19. (неопр.) . Дата обращения: 22 августа 2014. 26 августа 2014 года.
  20. 27 января 2013 года.
  21. // 5.08.2022
  22. (неопр.) . Дата обращения: 14 ноября 2012. 29 апреля 2014 года.

Same as Нитрид галлия