ASML — нидерландская компания, крупнейший производитель литографического оборудования для микроэлектронной промышленности , необходимого в том числе для изготовления СБИС , микросхем памяти, флеш-памяти, микропроцессоров.

Центральный офис — в Велдховене , там же находятся исследовательские и производственные подразделения, в местах установки оборудования действует более 60 центров обслуживания в 16 странах. Акции компании торгуются на AEX и NASDAQ под тикером ASML .

Компания, изначально называвшаяся ASM Lithography , была основана в 1984 году как совместное предприятие компаний и Philips . Впоследствии у Philips осталась только небольшая часть акций ASML . C рыночной капитализацией в $350 млрд (на осень 2021 года) компания входит в верхнюю часть индекса Nasdaq-100 .

Основной поставщик — германский производитель оптики Zeiss . Ключевые конкуренты — Canon и Nikon .

Продукция

Литографические установки ASML используются в производстве интегральных микросхем . В таких установках происходит процесс оптического проецирования специальных частично прозрачных шаблонов (масок) на поверхность полупроводниковой пластины , покрытую тонкой плёнкой светочувствительного материала ( фоторезиста ). Для каждой пластины эта процедура повторяется несколько десятков раз. После каждого проецирования происходит обработка пластины с нанесённым фоторезистом, в процессе которой формируются электронные структуры микросхем. Оптический метод, применяемый в установках ASML, стал использоваться для производства практически всех интегральных схем.

Ведущим поставщиком устройств для литографии ASML стала в 2002 году . На 2007 год, ASML имеет долю рынка продаж фотолитографического оборудования в 65 % (во всем мире) .

На 2008 год установка ASML высшего класса Twinscan XT:1950 могла использоваться с техпроцессами вплоть до 38 нм со скоростью до 131 пластины в час. В установке используется иммерсионная литография с водяной прослойкой и аргон-фторидный ( argon-fluoride , ArF) эксимерный лазер с длиной волны 193 нм. На тот же момент литографическая установка в среднем стоила €22 млн .

В 2009 году ASML разрабатывает установки с лазерами на 13,5 нм ( EUVL ). 22 апреля 2009 бельгийский исследовательский центр Imec представил работоспособные чипы КМОП SRAM выполненные по техпроцессу 22 нм на прототипе установки ASML с EUVL .

Основные серии литографов ASML :

• 1984: PAS 2000, разрешение до 1 мкм, точность позиционирования до 250 нм
• 1989: PAS 5000, разрешение около 0,5 мкм, точность до 100 нм
• 1990-е: PAS 5500, разрешение 400—90 нм, точность до 100—12 нм
• 2000-е: семейство TWINSCAN (NX, NXT), разрешение 100—38 нм, точность до 20—2 нм
• 2010-е: экспериментальные EUV системы TWINSCAN NXE, разрешение 38—19 нм, точность лучше 3 нм

Российские пользователи

В России использование степперов (литографов) ASML планировалось (по состоянию на 2008 год) на фабрике Ангстрем-Т .

Также среди российских пользователей ASML — НИИСИ , который использует установку проекционной пошаговой мультипликации (степпер) ASML PAS 5500/250С .

Установки ASML используются на передовой линии по производству микросхем в Зеленограде на заводе « Микрон » (PAS 5500/750F 248 nm/0.7 — 120 пластин в час и PAS/1150C 193 nm/0.75 — 135 пластин в час).

Примечания

Ссылки

• — официальный сайт ASML