Диаграмма связей
- 1 year ago
- 0
- 0
Зо́нная диагра́мма ( англ. band diagram ) — графическое представление координатной зависимости положений краёв энергетических зон в системах с полупроводниковыми или диэлектрическими материалами. По оси абсцисс откладывается декартова координата , по оси ординат — энергии потолка валентной зоны и дна зоны проводимости . Возможно построение «в числах» или, для демонстрационно-учебных целей, без соблюдения масштаба. Дополнительно нередко наносятся энергия Ферми , профили уровня вакуума и других значимых энергетических величин, а также вспомогательные изображения электронов , дырок , примесных атомов, дефектов или схем каких-либо процессов.
Зонные диаграммы используются как иллюстрации при рассуждениях о характере распределения приложенного напряжения в полупроводниковой системе, а также о типах переноса электрического заряда ( диффузия , дрейф, туннельный эффект , фотовозбуждение и пр.).
Правила построения зонных диаграмм рассматриваются в учебных пособиях по физике полупроводниковых приборов и твердотельной электронике .
Зонная диаграмма однородного полупроводника представляет собой две параллельные линии, соответствующие и (см. в верхней части рисунка, для двух материалов). Энергетическое расстояние между линиями равно ширине запрещённой зоны . Состояния выше и ниже являются разрешёнными. Также показаны сродство к электрону (разность энергий и уровня вакуума ) и работа выхода (разность - ), которая для заданного материала диктуется концентрацией легирующей примеси.
Если к слою материала с высоким удельным сопротивлением, например диэлектрика, приложено напряжение, то диаграмма наклоняется. Однако если сопротивление невелико, то основная часть напряжения будет падать на контактах или же, в системах с комбинациями материалов — на границах. Наклон ( — заряд электрона) равен величине электрического поля .
На стыке материалов должны выполняться такие правила :
Для обеспечения этих условий требуется изгиб зон слева и справа от стыка, а также разрыв краёв зон: , (см. нижнюю часть рисунка). Если слева и справа одинаковое вещество с разными концентрациями примеси, то разрывов не будет. Отступ по энергии от до краёв зон около стыка отличается от этого же отступа в толще. Направление изгиба определяется величинами напряжения и сродства к электрону, а точно профиль изгиба рассчитывается путём решения уравнения Пуассона (обычно он близок к параболическому).
Ниже представлены некоторые примеры реальных систем: p-n-перехода (стыка двух областей одного материала с разными типами легирования), контакта металл—полупроводник ( барьера Шоттки ), полупроводникового гетероперехода (аналогичного тому, который представлен в предыдущем разделе) и системы МДМ (металл—диэлектрик—металл).
Если напряжение не приложено, во всей системе наличествует единый уровень Ферми . Если оно приложено, то возникают раздельные квазиуровни Ферми для электронов и дырок, сливающиеся за пределами области стыка. Точные координатные зависимости квазиуровней могут быть рассчитаны.
В случае p-n-перехода, помимо , , цветом отмечена область изгиба зон, называемая обеднённой. Параметр — это встроенный потенциал, возникающий без приложения внешнего напряжения. Также схематично изображены заряженные (принявшие электрон) акцепторы и заряженные (потерявшие электрон) доноры в области обеднения. На диаграмме при ненулевом напряжении ещё представлены профили квазиуровней Ферми , .
В случае контакта Шоттки обозначение несёт иной смысл: это высота барьера, образовавшегося из-за требования отсутствия скачка уровня вакуума. Степень легирования полупроводника не влияет на , но влияет на величину и крутизну изгиба зон в полупроводнике. Интенсивностью серого цвета помечено заполнение электронами состояний с соответствующими энергиями: ниже заполнение близко к стопроцентному, а выше уровня Ферми оно сходит на ноль. Для металла края зон не показаны (запрещённой зоны в металле нет и разрешены состояния с любой энергией).
Заполнение состояний электронами также помечено для гетероперехода. Значимой деталью для этой диаграммы является то, что соотношение наклонов в месте стыка должно соответствовать обратному отношению диэлектрических проницаемостей сред ввиду граничных условий, вытекающих из уравнений Максвелла .
Диаграммы системы МДМ (работа выхода металла одинакова слева и справа) иллюстрируют ситуацию, когда при приложении напряжения возникает наклон зоны проводимости (валентная зона здесь не показана, она находится ниже рисунка и наклоняется параллельно ). Дополнительно стрелкой отмечено направление туннелирования и затем релаксации электронов (подобная вспомогательная информация часто наносится на такие диаграммы). Горизонтальные линии, завершающие штриховку сверху, — это уровни Ферми слева и справа от диэлектрического барьера.
Выше, на рисунке для p-n-перехода при подразумевалось, что сопротивление среды не слишком велико. В противном случае далеко слева и справа от стыка областей не могли бы формироваться горизонтальные участки зон — и ситуация трансформировалась бы в похожую на ту, которая изображена для МДМ-системы.
Все представленные диаграммы построены схематично. Дополнительной особенностью является то, что увеличение концентрации примесей всегда приводит к сужению областей изгиба и одновременному повышению величины поля на стыках.
Иногда возникает понятийная путаница между зонной диаграммой и зонной структурой , тем более что постоянно встречаются вполне корректные выражения типа «зонная диаграмма такой-то структуры».
Различие в том, что если на зонной диаграмме по горизонтали откладывается координата, то при представлении зонной структуры аргументом выступает волновой вектор электрона , вернее, какая-то его компонента, скажем . Назначение изображений структуры зон (см. пример ) в том, чтобы показать, применительно к конкретному веществу, как связана энергия электрона с его волновым вектором в диапазонах энергии, лежащих выше или ниже . При работе же с зонными диаграммами можно лишь понять, что эти диапазоны являются вообще «разрешёнными» — без детализации.