Interested Article - Карбонитрид гафния

Карбонитрид гафния ( Hf C _x N _y ) — тугоплавкое химическое соединение, представляющее собой твердый раствор , образованный карбидом и нитридом переходного металла гафния, имеющее наивысшую, рекордную, на сегодняшний день, температуру плавления около 4200 °С. Предыдущий рекордсмен — Карбид тантала-гафния .

Для получения карбонитрида гафния используют методы химического осаждения из газовой фазы и метод магнетронного распыления . Получение стехиометрических порошков HfC _x N _1-х производится из смеси гафния и углерода в атмосфере азота в шаровой мельнице путем механически индуцированных самоподдерживающихся реакций .

В 2015 году ученые из Брауновского университета провели моделирование атомной решетки Hf C _x N _y , которое предсказало, что этот материал может иметь температуру плавления, превышающую предыдущий рекорд Ta ₄ Hf ₁ C ₅ на 200 K .

В 2019 году коллектив учёных МИСИС получил разновидность карбонитрида гафния с химической формулой Hf C _0,5 N _0,35 .

Потенциальное применение

Ракетно-космическая промышленность («материалы прямого нагрева», теплозащитные и теплоотводящие поверхности, лопатки ).

Высокотемпературные лабораторные эксперименты.

См. также

Суперсплавы

Примечания

(рус.) . indicator.ru . Дата обращения: 9 августа 2020. 13 августа 2020 года.
Wang W., Nabatame T., Haneji N., Shimogaki Y. Electrical and thermal stability characteristics of HfCN films as metal gate-electrode synthesized by metalorganic chemical vapor deposition (англ.) // Jpn. J. Appl. Phys.. — 2005. — Vol. 44 . — P. L1019–L1021. . — doi : .
Piedrahita ] W.F., Coy L.E., Amaya C., Llarena I., Caicedo J.C., Yate L. Influence of the negative R.F. bias voltage on the structural, mechanical and electrical properties of Hf–C–N coatings (англ.) // Surf. Coating. Technol.. — 2016. — Vol. 286 . — P. 251–255 . — doi : .
Córdoba J.M., Sayagués M.J., Alcalá M.D., Gotor F.J. Monophasic nanostructured powders of niobium, tantalum, and hafnium carbonitrides synthesized by a mechanically induced self-propagating reaction (англ.) // J. Am. Ceram. Soc.. — 2007. — Vol. 90 . — P. 381–387 . — doi : .
Hong, Qi-Jun; van de Walle, Axel (2015). . Physical Review B . 92 (2). doi : . ISSN .
V.S. Buinevicha, A.A. Nepapusheva, D.O. Moskovskikh от 3 ноября 2020 на Wayback Machine // Ceramics International. — 2020. — Март