Mapper Lithography — нидерландская компания, разрабатывающая установки многолучевой электронной литографии для полупроводниковой индустрии.

Mapper расположена в Делфт , вблизи Делфтского технического университета (TU Delft), являющегося одним из акционеров компании.

Технология

Традиционная фотолитография для производства полупроводниковых пластин использует набор масок, изображение с которых проецируется специальными установками — степперами на покрытую фоторезистом полупроводниковую пластину . Установки электроннолучевой литографии способны создавать аналогичные структуры на пластинах без использования масок . В них используются тысячи параллельных электронных пучков (модель Matrix 1.1 — около 1,3 тысяч, Matrix 10.10 — 13,3 тысячи). Один пучок от мощного источника (5 кэВ) расщепляется на множество пучков, которые затем управляются с помощью электростатических линз, выполненных по технологии MEMS .

Способ управления лучом напоминает работу электронно-лучевых трубок в ЭЛТ-дисплеях или осциллографах .

С 2009 года Mapper Lithography совместно с ( ) ( Гренобль ) продвигают многолучевую безмасочную электронную литографию в рамках совместного проекта IMAGINE .

Экспериментальная установка Mapper Lithography ( Pre-alpha , 110 лучей по 5 кэВ, 2х2 мкм ² на луч ) тестировалась в TSMC в 2008 году . Разрешение составляло около 45 нм, с возможным обновлением до 32 нм в следующих литографах . После повышения количества пучков до 13 тысяч возможно достижение производительности в 10 пластин диаметром 300 мм в час .

Для получения адекватных при массовом производстве скоростей литографии предлагается создание кластерного литографа с общей производительностью в 100 пластин в час. В составе кластера будет устанавливаться десять модулей .

Среди технологических проблем: требуется чрезвычайно интенсивный источник электронов (около 10 ⁷ A/m ² Sr ² V), передача маски на управляющую MEMS матрицу должна происходить с высочайшими скоростями (общая — до 10 ТБайт/с, каждый канал около 7,5 Гбит/с)

Инвестиции от Роснано

23 августа 2012 года Роснано объявило об инвестировании 40 миллионов евро в Mapper Lithograpy . Используя еще 40 миллионов евро, привлеченные тогда же из других источников, компания Mapper сможет построить новый завод по сборке литографов в Делфте. Его производительность составит до 20 установок в год.

Также планировалось открыть в России (в Санкт-Петербурге ) производство одной из ключевых частей литографов — электронно-оптической системы на базе технологии MEMS .

В июле 2014 года в Москве на территории технополиса «Москва» был открыт завод по производству одного из наиболее наукоемких и центральных компонентов безмасочных литографов — элементов электронной оптики на основе МЭМС (микроэлектромеханических систем) . В 2014 году начато производство спейсеров, в октябре 2014 были выпущены первые кремниевые электронные линзы, в 2015 году расширен ассортимент выпускаемых кремниевых линз и начата отладка технологического процесса по производству элементов с управляющими электродами.

Компания признана банкротом 28 декабря 2018. Разработки, интеллектуальные права выкуплены ASML.

После банкротства

Российское подразделение Маппера не разорилось, после банкротства основной компании, «ООО Маппер» полностью выкупило Роснано .

См. также

• ASML — крупнейший производитель классических литографов
• Другие потенциальные поставщики установок многолучевой электронной литографии:
  • AG (Vienna, Austria)
  • Corp. (Milpitas, California) — технология Reflective Electron Beam Lithography (REBL)

Примечания

Ссылки

• // ПОРТФЕЛЬНЫЕ КОМПАНИИ РОСНАНО
• от 10 января 2014 на Wayback Machine
• // журнал «Интеграл» № 3 (71) 2013, стр 80