Ио́нно-лучева́я литогра́фия ( англ. ion beam lithography ) — технология изготовления электронных микросхем, использующая литографический процесс с экспонированием (облучением) резиста ионными пучками нанометрового сечения.

Описание

В ионно-лучевой литографии для экспонирования полимерных резистов обычно используют легкие ионы — протоны, ионы гелия. Использование более тяжелых ионов позволяет легировать подложку или создавать на ней тонкие слои новых химических соединений. Различия между электронной и ионной литографией обусловлены большей массой иона по сравнению с массой электрона и тем, что ион является многоэлектронной системой. Тонкий пучок ионов имеет более слабое угловое рассеяние в мишени, чем пучок электронов, поэтому ионно-лучевая литография обладает более высоким разрешением, чем электронно-лучевая. Потери энергии ионного пучка в полимерных резистах примерно в 100 раз выше, чем потери энергии электронного пучка, поэтому чувствительность резистов к ионному пучку тоже выше. Это означает, что экспонирование резиста тонким ионным пучком происходит быстрее, чем электронным лучом. Образование ионным пучком дефектов типа френкелевских пар «вакансия — межузельный атом » меняет скорость растворимости диэлектриков и металлов в некоторых растворителях примерно в пять раз. Это позволяет отказаться от полимерного резиста, так как слои материалов сами ведут себя как неорганические резисты. Ионно-лучевые системы литографии обеспечивают разрешение около 10 нм .

См. также

• Фотолитография
• Электронная литография
• Нанопечатная литография
• Электронная литография
• Фокусируемый ионный пучок

Литература

• Гусев А. И. Наноматериалы, наноструктуры, нанотехнологии. — М., Наука-Физматлит, 2007. — 416 с.
• Валиев К. А. Микроэлектроника: достижения и пути развития / Валиев К. А.. — М. : Наука, 1986. — 141 с.

• Валиев, К. А.; Раков, А. В. Физические основы субмикронной литографии в микроэлектронике. — М. : Наука, 1984. — 352 с.
• Чистяков Ю. Д., Райнова Ю. П. Введение в процессы интегральных микро- и нанотехнологий в 2-х т. / Коркишко Ю. Н.. — М. : БИНОМ, Лаборатория знаний, 2010—2014. — 392 с. — ISBN 978-5-9963-0341-0 .

• Форрестер, Т. А. Интенсивные ионные пучки. — М. : Мир, 1992. — 354 с. — ISBN 5-03-001999-0 .

• Попов В. Ф. Ионно-лучевые установки. — Л. : Энергоиздат, 1981. — 136 с.

• Броудай И., Мерей Дж. Физические основы микротехнологии. — М. : Мир, 1985. — 496 с. — ISBN 200002876210.

• Попов В. Ф., Горин Ю. Н. Процессы и установки электронно-ионной технологии. — М. : Высш. шк., 1988. — 255 с. — ISBN 5-06-001480-0 .

• Виноградов М. И., Маишев Ю. П. Вакуумные процессы и оборудование ионно - и электронно-лучевой технологии. — М. : Машиностроение, 1989. — 56 с. — ISBN 5-217-00726-5 .

Примечания

Ссылки

• При написании этой статьи использовался материал из издания « Словарь нанотехнологических терминов » (2009—…), доступного по лицензии Creative Commons .