Подложка — термин, используемый в материаловедении для обозначения основного материала , поверхность которого подвергается различным видам обработки, в результате чего образуются слои с новыми свойствами или наращивается плёнка другого материала.

Подложка в фотоматериалах и киноматериалах — основа фотоплёнки /фотопластины, служащая носителем эмульсионных слоёв .

Подложка в микроэлектронике — это обычно монокристаллическая полупроводниковая пластина, предназначенная для создания на ней плёнок, гетероструктур и выращивания монокристаллических слоёв с помощью процесса эпитаксии, кристаллизации и т. д.

При выращивании кристаллов большое значение имеют условия сопряжения кристаллических решёток нарастающего кристалла и подложки, причём существенно их структурно-геометрическое соответствие. Так же особое внимание стоит уделять чистоте поверхности и отсутствию дефектов в подложке. В случае сильного рассогласования постоянных решётки выращиваемого кристалла и подложки возможно применение буферного слоя для предотвращения возникновения множественных дислокаций .

Примечания

Литература

• Иофис, Е. А. Фотокинотехника / И. Ю. Шебалин. — М., : Советская энциклопедия , 1981. — С. 242. — 447 с.